Plasma do vácuo que chapeia o sistema do depósito do plasma do equipamento / PVD

N ° de Modelo: LH for Vacuum Plasma Plating Equipment Revestimento: Vacuum Coating Certificação: CE, ISO, SGS Tipo 1: Plasma de Vácuo Equipamento para Chapeamento Estrutura: Vertical, Single Door Coating Cor: Ouro, Rosegold, Prata, Preto, Azul, Ect Serviço: Prestação, treinamento, após a venda serviço revestimento tecnologia: Magnetron Sputtering + Arc Ion revestimento marca: HCVAC especificação: 1250 * 1500 mm, 1400 * 1600 mm, 1600 * 1800 mm código HS: 85433000 tipo: vácuo Plasma chapeamento equipamento substrato: vácuo Plasma chapeamento equipamento condição: Novo nome: PVD Plasma Deposition System Revestimento Film: Tin, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au etc Sistema Operacional: PLC Touching Screen Controle Automático Material de Revestimento: Aço Inoxidável, liga de metal, cerâmica, vidro etc Marca: Hcvac , Dongguan, China Transporte Pacote: 20ft ou 40ft Container Origem: China, Guangdong \ nVacuum Plasma Plating Equipment / PVD Plasma Deposition System \ n \ nEsta máquina principalmente integrar a tecnologia de evaporação íon arco, combinando a fonte de íons eo tensão de polarização de pulso. É controle de automação total ao revestir filmes. O revestimento será de boa aderência, à prova de riscos. \ N \ n \ n \ nO princípio do revestimento por arco elétrico a vácuo é baseado em cátodo frio, evaporação de plasma de descarga de arco auto-sustentado, material de ionização, combinação de polarização pulsada para melhorar a energia e a atividade de partículas depositadas e melhorar as propriedades do revestimento. Pode depositar revestimentos na superfície do metal, bem como não-metálicos. \ N \ n \ n \ nindústrias aplicadas: é amplamente utilizado na pulseira, watchcase, jóias, shell móvel, hardware, utensílios de mesa, etc. Pode revestir TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, Cu, Au, Al2O3 e outros filmes decorativos. Pode obter finura e filme suave, boa aderência. Efeito de cobertura de amostras! \ N \ n \ n \ n \ n \ nOs especialistas em revestimento da sua própria empresa: Solução completa para a produção de revestimento. \ n \ n \ nO HCVAC pode ajudá-lo a inserir facilmente o revestimento PVD por nossa máquina de revestimento a vácuo e serviço completo. Forneceremos a tecnologia mais adequada de acordo com suas necessidades. \ N \ nForneceremos a solução de revestimento especial para cada cliente; Combine o conjunto completo de técnicas de produção para atender às suas necessidades, para garantir alta eficiência de produção. \ N \ n \ nFácil de implementar \ n \ nPara muitas pessoas não familiarizadas com o processo, a tecnologia de revestimento PVD parece complicada. No entanto, com os investimentos certos e um bom suporte, é mais fácil do que o esperado. A HCVAC desenvolveu um processo de revestimento pronto para uso que torna um centro de revestimento de PVD fácil de implementar. Um processo de revestimento completo consiste em várias etapas: Decapagem (dependendo do histórico da peça); Pré-tratamento; Controle de qualidade; Limpeza e secagem; Fixação e inspeção visual; Revestimento PVD; Controle de qualidade e medição de espessura e pós-tratamento (dependendo da aplicação). Essas etapas estão disponíveis em um parceiro: Tecnologia HCVAC, incluindo técnicas e revestimentos maduros. \ N \ nDesenvolvemos um sistema completo de pós-vendas e medidas eficazes de serviço. A empresa possui agora uma equipe profissional de serviços pós-venda com mais de dez engenheiros experientes. \ N \ nNorma 9001 para garantir que a qualidade atenda aos requisitos do cliente. \ N \ nSinta-se à vontade para entrar em contato para obter mais informações! \ N \ nContato : Lillian Yang \ n \ nMobile: 0086-13825720037 \ n \ n \ n \ nParâmetros técnicos:

Mode Dimension	JTL-900	JTL-1100	JTL-1250
	900*1000mm	1100*1000mm	1250*1100mm
Coating mode and main confirguration	Six multi-arc targets + one set of column targets + one set of plane rectangle magnetron sputtering targets	Six multi-arc targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets	Twelve multi-arc targets + two sets of  plane rectangle magnetron sputtering targets+ a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets
Power source	Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power, pulse power, linear ionized source.
Process gas control	Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve
Vacuum chamber structure	Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling
Vacuum system	Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -5 Pa) Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -4 Pa)
Workpiece baking temperature	Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating.
Workpiece motion mode	Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute
Measure mode	Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10 -5 Pa
Control mode	Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC  four choice of control mode
Remark	We can design the dimension of the equipment according to customer's special technique requirement.

Grupo de Produto : Máquina de revestimento a vácuo de iões multi-arco